РефератыНаука и техникаПоПолучение сверхчистых материалов для микроэлектроники

Получение сверхчистых материалов для микроэлектроники

МИФИ


Факультет “Ф”


Получение сверхчистых материалов для микроэлектроники


Иванов Эдуард Валериевич


______________


Консультант


Петров В.И.


1998


Введение.


Требования к свойствам материалов по мере развития техники непрерывно растут, причём подчас необходимо получить труднореализуемые либо даже несовместимые сочетания свойств . Это и порождает многообразие материалов . Возникают новые классы сложных комбинированных материалов. Материалы становятся всё более специализированные .


Большинство используемых в настоящее время материалов создано в результате исследований, основанных на экспериментально найденных закономерностях.


К таким материалам, используемым в микроэлектронике относится, германий, ещё недавно не находивший применения в технике. Стал одним из важнейших материалов, обеспечивающих развитие современной техники на одной из важнейших передовых позиций – техники полупроводниковых диодов и триодов.


Применение германия стало возможным, когда его удалось практически нацело очистить от примесей. В полупроводниковой технике, важнейший и пока практически единственно области применения , германий почти исключителен в виде монокристаллических слитков ультравысокой чистоты, содержание примесей в таком германии составляет только несколько миллионных долей процента.


Германий является рассеянным элементом и получается в основном из отходов других производств. В последнее время одним из важнейших источников получения германия США и Англии становиться каменный уголь. Разработан ряд технологических схем получения германия из этого источника.


Техника получения монокристаллов германия высокой чистоты разработана в настоящее время достаточно надежно и обеспечивает выпуск монокристаллического германия в промышленном масштабе.


Ничтожное содержание примесей (порядка 10 – 10 %) резко изменяют электрические характеристики германия. Будучи намерено вводимы в очищенный германий резко изменяют электрические свойства германия в благоприятном направлении, улучшая его эксплуатационные характеристики.


В связи с этим, наряду с очисткой германия, возникли важнейшие проблемы легирования германия ничтожно малым количеством примесей, контроля этих примесей, и изучения их взаимодействия между собой и с германием, изменением свойств германия в зависимости от состава и т.п. Важнейшее место в этих исследованиях должно занять изучение процессов диффузии примесей германия, вопросов изменения свойств германия в зависимости от степени совершенства монокристалла, от теплового воздействия и т.д.


Получение полупроводников.


Исторически так сложилось, что первоотцом микроэлектороники является кремний . В природе кремний в основном встречается в виде оксида кремния (IV) SiO2 ( песок, кварц ), а также в виде силикатов. Схема получения силикатов представлена на рисунке 1.



Рисунок 1.


Не менее неободим в микроэлектронике и германий. Эти два полуприводника почти в равной степени используются в микроэлектронике.


Общим методом получения кремния и германия высокой степени чистоты является метод зонной плавки. Этот метод ( схема метода зонной плавк приведена на рисунке №2)



Рисунок 2.


1 – Загрязнённые кристаллы в цилиндрической трубке


2 – Плавление кристаллов ( нагреватель – раскалённая спираль )


3 – Трубка медленно движется относительно спирали


4 – Вещество кристаллизуется после прохождения зоны нагревания


5 – Примеси более растворимы в расплаве и концен

трируются в расплавленной зоне


Так же очень чистые материалы можно получить методом осаждения ионов данного металлоида на катоде в расплаве ( но этот метод по своей сути очень похож на зонную плавку ). В основном это расплавы сульфатов германия и оксидов кремния. Кстати впервые этот метод был использован при получении алюминия в девятнадцатом веке, что привело к колоссальному падению цен на этот металл, который до этого был ценнее золота.


В настоящее время...


В настоящее, время проблема получения полупроводников высокой чистоты, менее актуальна чем раньше, т.к. технологии получения уже относительно давно отработаны и стоят на должном уровне. Ну а сейчас, ученые занимаются изучением оксидных плёнок и их возможным применением в микроэлектронике и электронике в целом.


Основной проблемой полупроводников является их нагревание во время работы. Отмечено, что основной причиной, приводящей к деградации монокристаллов Si после нагрева, являются структурные преобразования, связанные с частичным превращением алмазоподобного Si в кремний со структурой белого олова. Причиной этих превращений, наблюдаемых при высоких давлениях, является возникновение многочисленных очагов концентрации напряжений вследствие анизотропии теплового расширения различно ориентированных микрообъемов кристалла. В этих очагах возможно достижение высоких давлений, необходимых для указанного фазового перехода. Высказано соображение, что предотвращение процесса структурных превращений, приводящих к деградации электрофизических свойств Si, возможно путем легирования его переходными либо редкоземельными металлами, повышающими энергию межатомного взаимодействия и за счет этого уменьшающими коэффициент термического расширения. Выбор легирующих добавок обоснован расчетами энергии связи и зарядовой плотности на основе системы неполяризованных ионных радиусов.


Для получения полупроводников с электронной проводимостью (
n –
типа ) с изменяющейся в широких пределах концентрацией электронов проводимости используют донорные примеси, образующие “мелкие” энергетические уровни в запрещённой зоне вблизи дна зоны проводимости. Для получения полупроводников с дырочной проводимостью (
P
– типа
)
вводятся акцепторные примеси, образующие уровни вблизи потолка валентной зоны.


РАСПРОСТРОНЕНИЕ.

Основное распространение полупроводники получили в компьютерных микросхемах и чипах. Именно эта область микроэлектроники требует наибольшего количества кремния и германия, причем очень высокой чистоты. В данной отрасли микроэлектроники наряду с сверхчистыми кремнием и германием, всё больше и больше применяются сверхпроводящие материалы.


Описанные выше методы, служат базой для современных разработок в данной области.


Список используемой литературы:


1. Физическая энциклопедия – 1990


издательство “ Советская энциклопедия ”


2. Германий – 1985


Издательство иностранной литературы, Москва ( сборник переводов ).


3. Материалы высокой чистоты – 1978


Издательство “ Наука ”


4. Журнал “ Физика и техника полупроводников ” -


1997 - 8


5. Проблемы современной электроники –


1996 – Сергеев А. С.


6. Начала современной химии - 1989- Рэмсден Э.Н.


издательство “ Ленинград “Химия” ”


7. Радиолюбитель – 1998-4


8. Современные достижения в микроэлектронике –


1998 – издательство “ РФСком ”

Сохранить в соц. сетях:
Обсуждение:
comments powered by Disqus

Название реферата: Получение сверхчистых материалов для микроэлектроники

Слов:908
Символов:7580
Размер:14.80 Кб.