Негосударственное образовательное учреждение
Институт «ТЕЛЕИНФО»
Физические основы электроники (ФОЭ)
Методические указания и контрольные задания для студентов
заочной и дистанционной форм обучения
Авторы составители: к.т.н., доцент Рудь В.В.
Редактор: д.т.н., профессор Сподобаев Ю.М.
Рецензент: д.т.н., профессор Логинов Н.П.
Самара, 2004
Физические основы электроники (ФОЭ)
Задание к выполнению контрольной работы
Целью данной контрольной работы является изучение электрофизических свойств и параметров собственных и примесных полупроводников и электронно-дырочных (p
-
n
) переходов, изготовленных на их основе, а также приобретение навыков их расчёта.
1. Исходные данные
1.1. Материал полупроводника – германий (Ge
) или кремний (Si
).
1.2. Концентрации примесей: в электронном полупроводнике –и в дырочном полупроводнике – .
1.3. Рабочая температура t
– в 0
С.
1.4. Приложенное к электронно-дырочному переходу напряжение – U
, В.
2. Задание контрольной работы
В соответствии с исходными данным необходимо выполнить следующие расчеты для электронно-дырочного перехода.
2.1. Определить равновесные концентрации подвижных носителей зарядов – в собственном полупроводнике.
2.2. Найти концентрации основных : и неосновных , носителей зарядов в примесных полупроводниках.
2.3. Определить положение уровня Ферми в собственном, электронном и дырочном полупроводниках и построить энергетические (зонные) диаграммы полупроводников в масштабе по оси энергий.
2.4. Определить энергетический и потенциальный барьеры, возникающие при образовании идеального электронно-дырочного перехода в состоянии равновесия.
2.5. Объяснить образование электронно-дырочного перехода.
2.6. Определить ширину идеального электронно-дырочного перехода в состоянии равновесия.
2.7. Построить в масштабе энергетическую (зонную) диаграмму идеального электронно-дырочного перехода в состоянии равновесия.
2.8. Определить ширину электронно-дырочного перехода при подаче на идеальный переход внешнего напряжения U
.
2.9. Построить в масштабе энергетическую (зонную) диаграмму идеального электронно-дырочного перехода при подаче на него прямого или обратного напряжения U
.
3. Выбор варианта задания для контрольной работы
Студенты, имеющие нечетную предпоследнюю цифру студенческого билета, выполняют задание с использованием полупроводников на основе кремния, а имеющие четную цифру – с использованием полупроводников на основе германия (см. табл. 1). Основные их параметры при температуре Т=3000
К приведены в табл. 2.
Таблица 1. Выбор исходных данных к выполнению контрольной работы
№№ вари анта
|
Nd
1/см3
|
Na
1/см3
|
t
0
|
U
В
|
№№ варианта
|
Nd
1/см3
|
Na
1/см3
|
t
0
|
U
В
|
00
|
1017
|
1016
|
10 |
0,3 |
10
|
1016
|
1017
|
25 |
0,3 |
01
|
1017
|
1015
|
10 |
0,3 |
11
|
1015
|
1017
|
10 |
0,3 |
02
|
1017
|
5*1015
|
10 |
0,3 |
12
|
5*1015
|
1017
|
10 |
0,3 |
03
|
4*1017
|
1016
|
10 |
0,3 |
13
|
1016
|
4*1017
|
10 |
0,3 |
04
|
4*1017
|
1015
|
10 |
0,3 |
14
|
1015
|
4*1017
|
10 |
0,3 |
05
|
4*1017
|
5*1015
|
15 |
0,4 |
15
|
5*1015
|
4*1017
|
10 |
0,35 |
06
|
5*1017
|
5*1015
|
15 |
0,4 |
16
|
5*1015
|
5*1017
|
15 |
0,35 |
07
|
5*1017
|
1016
|
15 |
0,4 |
17
|
1016
|
5*1017
|
15 |
0,35 |
08
|
5*1017
|
1015
|
15 |
0,4 |
18
|
1015
|
5*1017
|
15 |
0,35 |
09
|
5*1017
|
5*1015
|
15 |
0,4 |
19
|
5*1015
|
5*1017
|
15 |
0,35 |
20
|
1016
|
5*1015
|
20 |
0,25 |
30
|
5*1015
|
1016
|
15 |
0,4 |
21
|
1016
|
1016
|
20 |
0,25 |
31
|
1016
|
1016
|
20 |
0,4 |
22
|
1016
|
1015
|
20 |
0,25 |
32
|
1015
|
1016
|
20 |
0,4 |
23
|
5*1016
|
5*1015
|
20 |
0,25 |
33
|
5*1015
|
5*1016
|
20 |
0,4 |
24
|
5*1016
|
8*1015
|
20 |
0,25 |
34
|
8*1015
|
5*1016
|
20 |
0,4 |
25
|
5*1016
|
1016
|
23 |
-3 |
35
|
1016
|
5*1016
|
20 |
-3 |
26
|
5*1016
|
1015
|
23 |
-3 |
36
|
1015
|
5*1016
|
23 |
-3 |
27
|
5*1016
|
8*1014
|
23 |
-3 |
37
|
8*1014
|
5*1016
|
23 |
-3 |
28
|
1017
|
5*1015
|
23 |
-3 |
38
|
5*1015
|
1017
|
23 |
-3 |
29
|
1017
|
8*1015
|
23 |
-3 |
39
|
8*1015
|
1017
|
23 |
-3 |
40
|
1017
|
1016
|
25 |
-5 |
50
|
1016
|
1017
|
23 |
-5 |
41
|
4*1017
|
1015
|
25 |
-5 |
51
|
1015
|
4*1017
|
25 |
-5 |
42
|
4*1017
|
8*1014
|
25 |
-5 |
52
|
8*1014
|
4*1017
|
25 |
-5 |
43
|
1016
|
1017
|
25 |
-5 |
53
|
1017
|
1016
|
25 |
-5 |
44
|
1015
|
1017
|
25 |
-5 |
54
|
1017
|
1015
|
25 |
-5 |
45
|
5*1015
|
1017
|
10 |
0,3 |
55
|
1017
|
5*1015
|
25 |
0,3 |
46
|
1016
|
5*1017
|
10 |
0,3 |
56
|
4*1017
|
1016
|
10 |
0,3 |
47
|
1015
|
4*1017
|
10 |
0,3 |
57
|
4*1017
|
1015
|
10 |
0,3 |
48
|
5*1015
|
4*1017
|
10 |
0,3 |
58
|
4*1017
|
5*1015
|
10 |
0,3 |
49
|
5*1015
|
5*1017
|
10 |
0,3 |
59
|
5*1017
|
5*1015
|
10 |
0,3 |
60
|
1016
|
5*1017
|
15 |
0,35 |
70
|
5*1017
|
1016
|
10 |
0,35 |
61
|
1015
|
5*1017
|
15 |
0,35 |
71
|
5*1017
|
1015
|
15 |
0,35 |
62
|
5*1015
|
5*1017
|
15 |
0,35 |
72
|
5*1017
|
5*1015
|
15 |
0,35 |
63
|
5*1015
|
1016
|
15 |
0,35 |
73
|
1016
|
5*1015
|
15 |
0,35 |
64
|
1016
|
1016
|
15 |
0,35 |
74
|
1016
|
1016
|
15 |
0,35 |
65
|
1015
|
1016
|
20 |
0,25 |
75
|
1016
|
1015
|
15 |
0,4 |
66
|
5*1015
|
5*1016
|
20 |
0,25 |
76
|
5*1016
|
5*1015
|
20 |
0,4 |
67
|
8*1015
|
5*1016
|
20 |
0,25 |
77
|
5*1016
|
8*1015
|
20 |
0,4 |
68
|
1016
|
5*1016
|
20 |
0,25 |
78
|
5*1016
|
1016
|
20 |
0,4 |
69
|
1015
|
5*1016
|
20 |
0,25 |
79
|
5*1016
|
1015
|
20 |
0,4 |
80
|
8*1015
|
5*1016
|
23 |
-3 |
90
|
5*1016
|
8*1014
|
20 |
-3 |
81
|
5*1015
|
1017
|
23 |
-3 |
91
|
1017
|
5*1015
|
23<
/p>
|
-3 |
82
|
8*1015
|
1017
|
23 |
-3 |
92
|
1017
|
8*1015
|
23 |
-3 |
83
|
1016
|
1017
|
23 |
-3 |
93
|
1017
|
1016
|
23 |
-3 |
84
|
1015
|
4*1017
|
23 |
-3 |
94
|
4*1017
|
1015
|
23 |
-3 |
85
|
8*1014
|
4*1017
|
25 |
-5 |
95
|
4*1017
|
8*1014
|
23 |
-5 |
86
|
5*1014
|
4*1017
|
25 |
-5 |
96
|
4*1017
|
5*1014
|
25 |
-5 |
87
|
5*1014
|
1017
|
25 |
-5 |
97
|
1017
|
5*1014
|
25 |
-5 |
88
|
5*1014
|
5*1016
|
25 |
-5 |
98
|
5*1016
|
5*1014
|
25 |
-5 |
89
|
5*1014
|
1016
|
25 |
-5 |
99
|
1016
|
5*1014
|
25 |
-5 |
4. Перечень формул к выполнению контрольной работы
4.1. Для собственного (чистого) полупроводника
Для собственного (чистого или идеального) полупроводника равновесные концентрации электронов и дырок ni
=pi
определяются выражением
, (1)
В выражении (1) ΔW = – ширина запрещенной зоны полупроводника,
и - «дно» зоны проводимости и «потолок» валентной зоны соответственно,
k
– постоянная Больцмана, равная k
=1,3805*10-23
Дж/0
К,
Т
– абсолютная температура в градусах Кельвина (T
=t
+ 2730
К),
N
– среднее геометрическое значение эффективных плотностей энергетических состояний в зоне проводимости и валентной зоне , т.е. плотность разрешенных уровней энергии (которые могут занимать электроны). Их численные значения определяются выражениями
, , (2)
. (3)
В выражениях (2) и (3) и - эффективные массы соответственно электрона и дырки, определяемые по данным табл. 2, – масса электрона в состоянии покоя, = 9,1095*10-31 кг,
h
– постоянная Планка, h
=6,6262*10-34
Дж*с.
Уровень Ферми в собственном полупроводнике находится в середине запрещённой зоны и определяется выражением
, (4)
В выражении (4) WE
– так называемый электростатический уровень (т.е. уровень, соответствующий середине ширины запрещённой зоны).
4.2. Для примесных полупроводников
В случае примесных полупроводников концентрации подвижных носителей зарядов n
и p
определяются известным соотношением концентраций подвижных носителей зарядов
. (5)
В рабочем диапазоне температур практически все атомы примеси оказываются ионизированными, поэтому с учётом того, что на практике концентрации примесей выбираются из условий Nd
>>
ni
, и Na
>>р
i
, для концентраций основных носителей зарядов полупроводников n
и p
типов с весьма высокой степенью приближения соответственно выполняются условия
nn
≈
Nd
и pp
≈
Na
.
Тогда с учётом (5) соотношения для концентраций неосновных носителей зарядов принимают вид (6)
и . (6)
Уровни Ферми в примесных полупроводниках определяются выражениями
, (7)
. (8)
В выражениях (7) и (8) WFn
– уровень Ферми в электронном полупроводнике, WFp
– уровень Ферми в дырочном полупроводнике, Nd
– концентрация донорной примеси, Na
– концентрация акцепторной примеси.
Сравнение выражений (4), (7) и (8) показывает, что уровни Ферми собственного и примесных полупроводников неодинаковы. Иначе говоря, между ними существует следующее соотношение
WFn
>
WFi
>
WFp
. (9)
4.3. Для электронно-дырочного (
p
-
n
) перехода
При образовании двухслойных контактов (переходов) p-
i
, i-
n
или p-
n
между полупроводниками, образующими их, в результате перераспределения подвижных носителей зарядов происходит выравнивание уровней Ферми, т.е. в каждом случае формируется уровень Ферми единый для всего контакта. В результате на границе раздела в контактах происходит деформация энергетических зон и образование энергетического и потенциального барьеров (контактной разности потенциалов). Их величины и знаки можно определить с учётом (4) и (7…9).
В случае электронно-дырочного перехода энергетический барьер определится в виде
. (10)
В выражении (10) Wcp
и Wcn
, – границы между зонами проводимости («дно» зон проводимости) и запрещённой зоной областей p
и n
электронно-дырочного перехода, а Wvp
и Wvn
– границы между валентными зонами («потолок» валентных зон) и запрещённой зоной областей p
и n
.
Высота потенциального барьера (контактная разность потенциалов) в идеальном электронно-дырочном переходе в состоянии равновесия и отсутствии внешнего напряжения равна
. (11)
В выражении (11) e
– заряд электрона, e
=1,6022*10-19
Кл (без учёта знака).
Ширина идеального электронно-дырочного перехода в состоянии равновесия δ0
определяется выражением (12)
, (12)
где – абсолютная диэлектрическая проницаемость полупроводника,
ε0
– универсальная физическая постоянная (или диэлектрическая проницаемость вакуума), равная ε0
=0,885*10-13
Ф/м ,
ε –относительная диэлектрическая проницаемость полупроводника, определяемая из табл.2.
4.4. Для
p
-
n
перехода, смещённого внешним напряжением
U
При подаче внешнего напряжения высота потенциального барьера в идеальном p-n переходе становится равной φ = φk
– U
, (обратное напряжение берется со знаком –).
В этом случае высота энергетического барьера p-
n
перехода станет равной (13)
(13)
Ширина идеального электронно-дырочного приобретает вид (14)
. (14)
Смещение уровня Ферми в пределах p
-
n
перехода определится выражением (15)
. (15)
Равновесное состояние p-n перехода нарушается и через него преимущественно протекают либо диффузионные потоки основных зарядов (при U
>0), либо дрейфовые потоки неосновных зарядов (при U
<0).
5. Методические указания к выполнению работы
5.1. При выполнении расчётов следует учитывать, что параметры полупроводников приведены в табл. 2 для температуры Т
=3000
К. Поэтому при расчёте равновесных концентраций собственного полупроводника по формуле (1) необходимо учитывать температурные зависимости эффективных плотностей N
, Nc
и Nv
, пользуясь выражениями (2,3,4), а также температурную зависимость ширины запрещённой зоны ΔW
.
5.2. Ширину запрещённой зоны ΔW
для германия при температурах выше 2000
К можно определить по эмпирической зависимости ΔW
=0,782 – 3,9·10-4
·Т
(эВ).
5.3. Для ширины запрещённой зоны кремния при температурах выше справедливо аналогичное соотношение ΔW
=1,205 – 2,84·10-4
·Т
(эВ).
5.4. Вычисленные по п.п. 5.2 и 5.3 значения ΔW
при подстановке в формулу (1) следует из эВ перевести в джоули, умножив их на заряд электрона е
.
5.5. При вычислении уровней Ферми и построении энергетических диаграмм электронного и дырочного полупроводников, а также электронно-дырочного перехода необходимо в каждом случае их отсчёт производить не от уровня W
=0, а от нижнего уровня зоны проводимости Wc
каждой (n
или p
) областей полупроводника. Тогда выражения (4), (7) и (8) преобразуются соответственно к виду
, (41
)
, (71
)
. (81
)
5.6. При построении энергетических (зонных) диаграмм рекомендуется для всех энергетических уровней использовать единицу измерения – эВ.
Таблица 2. Основные параметры
Ge
,
Si
и
GaAs
Параметр (при Т=3000
|
Германий |
Кремний |
Арсенид галлия |
Собственное удельное сопротивление ρ, Ом.см |
47 |
2,3*105
|
108
|
Ширина запрещённой зоны ΔW
|
0,67 |
1,12 |
1,42 |
Эффективная масса электрона по отношению к массе свободного электрона mn
|
0,22 |
0,33 |
0,07 |
То же для дырок m
|
0,39 |
0,55 |
0,5 |
Эффективная плотность состояний, см-3
|
|||
в зоне проводимости Nc
|
1019
|
2,8*1019
|
4,7*1017
|
в валентной зоне Nv
|
6*1018
|
1019
|
7*1017
|
Собственная концентрация ni
|
2,4*1013
|
1,45*1010
|
1,8*106
|
Подвижность, см2
|
|||
электронов μn
|
3900 |
1500 |
8500 |
дырок μр
|
1900 |
450 |
400 |
Коэффициент диффузии, см2
|
|||
электронов Dn
|
100 |
36 |
290 |
дырок Dр
|
45 |
13 |
12 |
Электрическое поле пробоя, В/см
|
1,42 |
1,05 |
1,15 |
Относительная диэлектрическая проницаемость ε |
16 |
12 |
13 |
5. Литература
1. Петров К.С. Радиоматериалы, радиокомпоненты и электроника: Учебное пособие/ – СПб. Питер, 2003. – 512 с.: ил.
2. Пасынков В.В., Чиркин Л.К. Полупроводниковые приборы: Учебник для вузов. 7-е изд., испр. – СПб.: Издательство «Лань», 2003. – 480 с.: ил. – (Учебники для вузов. Специальная литература).
3. Батушев В.А. Электронные приборы: Учебник для вузов. – 2-е изд., перераб. и доп. – М: Высш. шк., 1980. – 383 с.: ил.
4. Электронные приборы: Учебник для вузов/ В.Н. Дулин, Н.А. Аваев, В.П. Дёмин и др.; Под ред. Г.Г. Шишкина. – 4-е изд., перераб. и доп. . – М: Энергоатомиздат, 1989. – 486 с.: ил.
5. Фридрихов С.А. Мовнин С.М. Физические основы электронной техники: Учебник для вузов. – М.: Высш. шк., 1982. – 608 с.: ил.
6. Степаненко И.П. Основы микроэлектроники: Учеб. пособие для вузов. – 2-е изд., перераб. и доп. – М.: Лаборатория базовых знаний, 2000. – 488 с.: ил.
7. Пасынков В.В., Сорокин Материалы электронной техники: Учебник. 5-е изд., стер. – СПб.: Издательство «Лань, 2003. – 368 с., ил. – (Учебники для вузов. Специальная литература).
8. Андреев В.М. и др. Материалы микроэлектронной техники: Учеб. пособие для вузов. – М.: Радио и связь, 1989.
9. Бреус. А.И. Физические основы электроники.: Конспект лекций. – Самара: 2003. – 58 с.: ил.
10. Логинов Н.П., Рудь В.В., Маслов М.Ю., Ситникова С.В. Химия радиоматериалов: Методические указания и контрольные задания для студентов дневной, заочной и дистанционной форм обучения всех специальностей по направлению «Телекоммуникации». – Самара: ПГАТИ, 2003. – 18 с.: ил.
11. Рудь В.В., Коновалов А.П., Луппов А.Н., Ситникова С.В. Методическая разработка по темам лабораторных модулей 3,4,5. Исследование полупроводниковых приборов. – Самара: ПГАТИ, 1995. – 102 с.: ил.
ПРИЛОЖЕНИЕ
Значения энергии ионизации (активации) примеси различного типа
Полупроводник электронного типа
Донорная примесь
|
Энергия ионизации примеси
|
|
Материал
|
||
Германий (
|
Кремний (
|
|
Фосфор (Р
|
0,012
|
0,044
|
Мышьяк (
|
0,013
|
0,049
|
Сурьма (
|
0,0096
|
0,039
|
Полупроводник дырочного типа
Акцепторная
примесь
|
Энергия ионизации примеси
|
|
Материал
|
||
Германий (
|
Кремний (
|
|
Бор (Р
|
0,0104
|
0,045
|
Алюминий (
|
0,01
|
0,0
|
Галлий (
|
0,0108
|
0,065
|
Индий (
|
0,0112
|
0,16
|